| Item type |
デフォルトアイテムタイプ（フル）(1) |
| 公開日 |
2007-03-04 |
| タイトル |
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タイトル |
溶液成長に於ける溶質場の安定性解析 |
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言語 |
ja |
| タイトル |
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タイトル |
Analysis of Stability in the Solute Field during the Solution Growth |
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言語 |
en |
| 作成者 |
斉藤, 正敏
押川, 渡
糸村, 昌祐
Saitou, Masatoshi
Oshikawa, Wataru
Intomura, Shousuke
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| アクセス権 |
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アクセス権 |
open access |
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アクセス権URI |
http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 |
| 権利情報 |
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言語 |
ja |
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権利情報 |
Copyright (c) 1998 日本機械学会 |
| 主題 |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
Norferrous Metal |
| 主題 |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
Condensation |
| 主題 |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
Stability |
| 主題 |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
Natural Convection |
| 内容記述 |
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内容記述タイプ |
Other |
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内容記述 |
The authors have reported a critical gap length between two Si substrates at which the growth rate becomes zero during the solution growth. In this paper, the mechanism for explaining the abrupt change in the growth rate is proposed using the analysis of governing perturbation equations in the solute field. The results show that a non-dimensional parameter GrSc ∂c/∂y determines the stability in the solute field, and further instability which causes the flow in the solute field sets in at the critical gap length. This leads to the conclusion that the growth on the substrate does not take place because the solute diffusion in the solvent dominates below the critical gap length. |
| 内容記述 |
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内容記述タイプ |
Other |
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内容記述 |
論文 |
| 出版者 |
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出版者 |
日本機械学会 |
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言語 |
ja |
| 言語 |
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言語 |
jpn |
| 資源タイプ |
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資源タイプ識別子 |
http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 |
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資源タイプ |
journal article |
| 出版タイプ |
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出版タイプ |
VoR |
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出版タイプResource |
http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 |
| 識別子 |
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識別子 |
http://hdl.handle.net/20.500.12000/230 |
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識別子タイプ |
HDL |
| 収録物識別子 |
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収録物識別子タイプ |
ISSN |
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収録物識別子 |
03875016 |
| 収録物識別子 |
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収録物識別子タイプ |
NCID |
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収録物識別子 |
AN00187441 |
| 収録物名 |
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収録物名 |
日本機械学会論文集. B編 |
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言語 |
ja |
| 収録物名 |
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収録物名 |
Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers. B |
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言語 |
en |
| 書誌情報 |
巻 64,
号 617,
p. 71-76,
発行日 1998-01-25
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saitou_m02.pdf
