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  1. 学術雑誌論文
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Analysis of stability in a solute field under liquid phase epitaxy

http://hdl.handle.net/20.500.12000/160
http://hdl.handle.net/20.500.12000/160
62328fa1-1a8d-4b8e-b228-1708cdbbf9b7
名前 / ファイル ライセンス アクション
saitou_m04.pdf saitou_m04.pdf
Item type デフォルトアイテムタイプ(フル)(1)
公開日 2007-03-01
タイトル
タイトル Analysis of stability in a solute field under liquid phase epitaxy
言語 en
作成者 Saitou, Masatoshi

× Saitou, Masatoshi

en Saitou, Masatoshi

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Motoyama, S

× Motoyama, S

en Motoyama, S

Search repository
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
権利情報
言語 en
権利情報 Copyright (1998) American Institute of Physics
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 SILICON
内容記述
内容記述タイプ Other
内容記述 We reported a critical gap length between two silicon substrates at which no epitaxial layer was grown on the upper silicon substrate [M. Saitou and S. Itomura, J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 8, 321 (1997)]. In this study, using perturbation theory and a numerical solution, the abrupt change in the growth rate is investigated. We find that a nondimensional parameter GrSc partial derivative c/partial derivative y determines the instability in a solute field, and that under a critical value of this parameter no epitaxial growth on the substrate sets in because diffusion governs the mass transport of the silicon solute.
内容記述
内容記述タイプ Other
内容記述 論文
出版者
出版者 American Institute of Physics
言語 en
言語
言語 eng
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
出版タイプ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
識別子
識別子 http://hdl.handle.net/20.500.12000/160
識別子タイプ HDL
関連情報
識別子タイプ URI
関連識別子 http://scitation.aip.org/japo/
関連情報
識別子タイプ DOI
関連識別子 10.1063/1.368843
収録物識別子
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 00218979
収録物識別子
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA00693547
収録物名
収録物名 JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
言語 en
書誌情報
巻 84, 号 10, p. 5780-5784, 発行日 1998-11-15
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Ver.1 2022-01-24 09:35:47.278428
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