| Item type |
デフォルトアイテムタイプ（フル）(1) |
| 公開日 |
2007-03-01 |
| タイトル |
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タイトル |
Surface growth of Ni thin films electrodeposited on Ni(100) surfaces |
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言語 |
en |
| 作成者 |
斉藤, 正敏
Hamaguchi, K
Oshikawa, W
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| アクセス権 |
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アクセス権 |
open access |
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アクセス権URI |
http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 |
| 権利情報 |
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言語 |
en |
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権利情報 |
Copyright (C) 2003 The Electrochemical Society. |
| 主題 |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
MOLECULAR-BEAM EPITAXY |
| 主題 |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
UNIVERSALITY CLASS |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
DEPOSITION |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
INSTABILITY |
| 内容記述 |
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内容記述タイプ |
Other |
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内容記述 |
Surface growth of Ni thin films electrodeposited on Ni(100) substrates has been investigated using atomic force microscopy. In the early stage of growth, islands nucleated on the Ni(100) substrates, which appear to be rectangular in cross section, grow laterally in the same crystallographic orientation. Growth surfaces display a normal scaling behavior characterized by the linear surface diffusion universality class. Along the time evolution, instability in growth occurs and a transition from two- to three-dimensional growth is observed. In this stage, surface growth obeys anomalous scaling characterized by a local roughness exponent zeta(loc) = 1.0, global scaling exponent zeta = 2.1, and dynamic exponent z = 1.0. |
| 内容記述 |
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内容記述タイプ |
Other |
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内容記述 |
論文 |
| 出版者 |
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出版者 |
The Electrochemical Society |
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言語 |
en |
| 言語 |
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言語 |
eng |
| 資源タイプ |
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資源タイプ識別子 |
http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 |
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資源タイプ |
journal article |
| 出版タイプ |
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出版タイプ |
VoR |
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出版タイプResource |
http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 |
| 識別子 |
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識別子 |
http://hdl.handle.net/20.500.12000/157 |
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識別子タイプ |
HDL |
| 関連情報 |
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識別子タイプ |
DOI |
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関連識別子 |
10.1149/1.1539499 |
| 関連情報 |
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識別子タイプ |
URI |
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関連識別子 |
http://www.ecsdl.org/JES/ |
| 収録物識別子 |
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収録物識別子タイプ |
ISSN |
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収録物識別子 |
0013-4651 |
| 収録物識別子 |
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収録物識別子タイプ |
NCID |
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収録物識別子 |
AA00697016 |
| 収録物名 |
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収録物名 |
Journal of the Electrochemical Society |
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言語 |
en |
| 書誌情報 |
巻 150,
号 3,
p. C99-C103,
発行日 2003-03
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saitou_m05.pdf
