Item type |
デフォルトアイテムタイプ(フル)(1) |
公開日 |
2007-03-01 |
タイトル |
|
|
タイトル |
Surface roughening in the growth of direct current or pulse current electrodeposited nickel thin films |
|
言語 |
en |
作成者 |
Saitou, Masatoshi
Oshikawa, W
Mori, M
Makabe, A
斉藤, 正敏
|
アクセス権 |
|
|
アクセス権 |
open access |
|
アクセス権URI |
http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 |
権利情報 |
|
|
言語 |
en |
|
権利情報 |
(c) 2006 The Electrochemical Society |
主題 |
|
|
言語 |
en |
|
主題Scheme |
Other |
|
主題 |
MOLECULAR-BEAM EPITAXY |
主題 |
|
|
言語 |
en |
|
主題Scheme |
Other |
|
主題 |
COPPER ELECTRODEPOSITS |
主題 |
|
|
言語 |
en |
|
主題Scheme |
Other |
|
主題 |
INSTABILITY |
主題 |
|
|
言語 |
en |
|
主題Scheme |
Other |
|
主題 |
DEPOSITION |
主題 |
|
|
言語 |
en |
|
主題Scheme |
Other |
|
主題 |
NUCLEATION |
主題 |
|
|
言語 |
en |
|
主題Scheme |
Other |
|
主題 |
DIFFUSION |
内容記述 |
|
|
内容記述タイプ |
Other |
|
内容記述 |
The surface roughening in the growth of direct current or pulse current electrodeposited nickel thin films at a low current density is investigated using atomic force microscopy (AFM). The growth exhibits scaling behaviors characterized by the roughness exponent alpha and growth exponent beta. The analysis of the AFM images of the nickel thin films reveals that (i) for direct current electrodeposition: alpha = 0.96 and beta = 0.78, and (ii) for pulse current electrodeposition: alpha = 0.92 and beta = 0.65. Each value of a for the two techniques is almost in agreement with that predicted by a statistical model of linear diffusion dynamics. X-ray diffraction of the nickel thin films indicates the presence of preferred growth orientations that are related to the growth exponent beta > 1/2. |
内容記述 |
|
|
内容記述タイプ |
Other |
|
内容記述 |
論文 |
出版者 |
|
|
言語 |
en |
|
出版者 |
The Electrochemical Society |
言語 |
|
|
言語 |
eng |
資源タイプ |
|
|
資源タイプ |
journal article |
|
資源タイプ識別子 |
http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 |
出版タイプ |
|
|
出版タイプ |
VoR |
|
出版タイプResource |
http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 |
識別子 |
|
|
識別子 |
http://hdl.handle.net/20.500.12000/113 |
|
識別子タイプ |
HDL |
関連情報 |
|
|
|
識別子タイプ |
DOI |
|
|
関連識別子 |
10.1149/1.1415548 |
関連情報 |
|
|
|
識別子タイプ |
URI |
|
|
関連識別子 |
http://www.ecsdl.org/JES/ |
収録物識別子 |
|
|
収録物識別子タイプ |
ISSN |
|
収録物識別子 |
00134651 |
収録物識別子 |
|
|
収録物識別子タイプ |
NCID |
|
収録物識別子 |
AA00697016 |
収録物名 |
|
|
言語 |
en |
|
収録物名 |
Journal of the Electrochemical Society |
書誌情報 |
巻 148,
号 12,
p. C780-C783,
発行日 2001-12
|