| Item type |
デフォルトアイテムタイプ（フル）(1) |
| 公開日 |
2010-01-04 |
| タイトル |
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タイトル |
VHFスパッタリング法により作製した水素化アモルファス炭素薄膜の基板バイアスの効果 |
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言語 |
ja |
| タイトル |
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タイトル |
Influence of Substrate Bias on Hydrogenated Amorphous Carbon Films Prepared by VHF Sputtering |
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言語 |
en |
| 作成者 |
松井, 謙治
喜友名, 達也
比嘉, 晃
渡久地, 實
Matsui, Kenji
Kiyuna, Tatsuya
Higa, Akira
Toguchi, Minoru
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| アクセス権 |
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アクセス権 |
open access |
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アクセス権URI |
http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 |
| 主題 |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
hydrogenated amorphous carbon |
| 主題 |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
VHF plasma |
| 主題 |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
sputtering |
| 主題 |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
substrate bias |
| 主題 |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
infrared(IR) |
| 主題 |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
UV-VIS |
| 主題 |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
hydrogen content |
| 主題 |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
optical energy gap |
| 主題 |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
dangling bond |
| 内容記述 |
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内容記述タイプ |
Other |
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内容記述 |
Hydrogenated amorphous carbon (a-C:H) films were prepared by reactive very high frequency magnetron sputtering at hydrogen partial pressure of 0 Pa to 1 Pa and substrate biases 0V, 50V and 100V. Influence of substrate bias on hydrogen content, bonding hydrogen configuration and optical energy gap in the a-C:H films were investigated by FT-IR spectroscopy and UV-VIS spectroscopy. As applying substrate bias, the range of hydrogen partial pressure in which the films were able to be formed become narrow. The trend of the dependence of hydrogen content in the a-C:H films prepared with. substrate bias is similar to that without substrate bias. However, the position of partial pressure at the maximum of the hydrogen content shifts toward low pressure with substrate bias. We considered that these results could be due to enhancement of etching process on growing surface by increasing substrate bias. It is also found that optical energy gaps of the films were dependent on strongly the hydrogen content. This result would suggest that the compensation of dangling bond in the films by hydrogen was concerned in optical energy gap. |
| 内容記述 |
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内容記述タイプ |
Other |
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内容記述 |
紀要論文 |
| 出版者 |
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出版者 |
琉球大学工学部 |
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言語 |
ja |
| 言語 |
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言語 |
jpn |
| 資源タイプ |
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資源タイプ識別子 |
http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 |
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資源タイプ |
departmental bulletin paper |
| 出版タイプ |
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出版タイプ |
VoR |
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出版タイプResource |
http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 |
| 識別子 |
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識別子 |
http://hdl.handle.net/20.500.12000/14409 |
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識別子タイプ |
HDL |
| 収録物識別子 |
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収録物識別子タイプ |
ISSN |
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収録物識別子 |
0389-102X |
| 収録物識別子 |
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収録物識別子タイプ |
NCID |
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収録物識別子 |
AN0025048X |
| 収録物名 |
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収録物名 |
琉球大学工学部紀要 |
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言語 |
ja |
| 書誌情報 |
号 59,
p. 101-106,
発行日 2000-03
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No59p101.pdf
